Доступен на авторизованном компьютере Национальной библиотеки Эстонии, Архивной библиотеки Эстонского литературного музея, библиотеки Таллиннского технического университета, библиотеки Тартуского университета u Академической библиотеки Таллиннского университета
Доступно в сети Национальной библиотеки Эстонии
Открытый доступ предоставляется
Atomic layer deposition of titanium, zirconium and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films ; 49 (Dissertationes physicae Universitatis Tartuensis)
Автор: Jaan Aarik, Tartu Ülikool. Füüsika-keemiateaduskond, Tartu Ülikool. Eksperimentaalfüüsika ja tehnoloogia instituut, Tartu Ülikool. Materjaliteaduse instituut, Tartu Ülikool. Füüsika instituut, Научный руководитель: Lembit Pung
Смотреть
