Atomic layer deposition of titanium, zirconium and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films ; 49 (Dissertationes physicae Universitatis Tartuensis)
Vaata Vaata

Alla laetud 5 korda

Kättesaadav autoriseeritud töökohal Eesti Rahvusraamatukogus, Eesti Kirjandusmuuseumi Arhiivraamatukogus, Tallinna Tehnikaülikooli Raamatukogus, Tartu Ülikooli Raamatukogus ja Tallinna Ülikooli Akadeemilises Raamatukogus

Kättesaadav Eesti Rahvusraamatukogu sisevõrgus

Kättesaadav välisvõrgus

Atomic layer deposition of titanium, zirconium and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films ; 49 (Dissertationes physicae Universitatis Tartuensis)

tehnilised andmed

Kirjastaja:
Tartu Ülikool
Ilmumisaeg:
Keel:
inglise
Deposiitor:
Tartu Ülikool
Laad:
raamat
Autoriõigusega kaitstud
ESTER
b22327873
ISBN
978-9949-11-543-3

Püsilink: http://www.digar.ee/id/nlib-digar:1995

Märksõnad

VAATA VEEL