Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

Kättesaadav autoriseeritud töökohal Eesti Rahvusraamatukogus, Eesti Kirjandusmuuseumi Arhiivraamatukogus, Tallinna Tehnikaülikooli Raamatukogus, Tartu Ülikooli Raamatukogus ja Tallinna Ülikooli Akadeemilises Raamatukogus

Ei ole kättesaadav Eesti Rahvusraamatukogu sisevõrgus

Ei ole kättesaadav välisvõrgus

Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

Autor: Lauri Aarik, Tartu Ülikool. Füüsika instituut, Tartu Ülikool. Materjaliteaduse osakond, Tartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkond, Eesti-AGA (firma), Juhendaja: Väino Sammelselg

tehnilised andmed

Kirjastaja:: University of Tartu Press
Ilmumisaeg:: 2017
Keel:: inglise
Deposiitor:: Tartu Ülikooli Kirjastus OÜ

Laad:: raamat

: Autoriõigusega kaitstud
ESTER: b47432159
ISBN: 978-9949-776-02-3

Püsilink: http://www.digar.ee/id/nlib-digar:329135

Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

tehnilised andmed

Märksõnad

VAATA VEEL

Kuulub sarja

Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

tehnilised andmed

Märksõnad

VAATA VEEL