Atomic layer deposition of HfO2 – nucleation, growth and structure development of thin films (Eesti üliõpilaste teadustööde riiklik konkurss ; 2011)

Kättesaadav autoriseeritud töökohal Eesti Rahvusraamatukogus, Eesti Kirjandusmuuseumi Arhiivraamatukogus, Tallinna Tehnikaülikooli Raamatukogus, Tartu Ülikooli Raamatukogus ja Tallinna Ülikooli Akadeemilises Raamatukogus

Kättesaadav Eesti Rahvusraamatukogu sisevõrgus

Kättesaadav välisvõrgus

Atomic layer deposition of HfO2 – nucleation, growth and structure development of thin films (Eesti üliõpilaste teadustööde riiklik konkurss ; 2011)

Autor: Raul Rammula, Tartu Ülikool. Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikool. Füüsika instituut, Eesti üliõpilaste teadustööde riiklik konkurss, Juhendaja: Jaan Aarik, Väino Sammelselg

tehnilised andmed

Kirjastaja:: Tartu University Press
Ilmumisaeg:: 2011
Keel:: inglise
Deposiitor:: Archimedes SA
Kasutusmärge:: http://hdl.handle.net/10062/18095

Laad:: raamat

: Autoriõigusega kaitstud
ESTER: b27013558
ISBN: 978-9949-19-780-4

Püsilink: http://www.digar.ee/id/nlib-digar:110327

Atomic layer deposition of HfO2 – nucleation, growth and structure development of thin films (Eesti üliõpilaste teadustööde riiklik konkurss ; 2011)

tehnilised andmed

Märksõnad

VAATA VEEL