Atomic layer deposition of titanium, zirconium and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films ; 49 (Dissertationes physicae Universitatis Tartuensis)
tehnilised andmed
Püsilink: http://www.digar.ee/id/nlib-digar:1995
VaataAlla laetud 5 korda
Kättesaadav autoriseeritud töökohal Eesti Rahvusraamatukogus, Eesti Kirjandusmuuseumi Arhiivraamatukogus, Tallinna Tehnikaülikooli Raamatukogus, Tartu Ülikooli Raamatukogus ja Tallinna Ülikooli Akadeemilises Raamatukogus
Kättesaadav Eesti Rahvusraamatukogu sisevõrgus
Kättesaadav välisvõrgus
Püsilink: http://www.digar.ee/id/nlib-digar:1995
